一、好组件，，不怕遮挡。。。。Hi-MO X10接纳行业最先进的HPBC 2.0电池手艺，，效率凌驾26.6%，，同时，，HPBC2.0手艺接纳新型半片工艺，，镌汰切片损失和边沿泄电;HPBC 2.0还接纳双极复合钝化手艺和类旁路二极管结构，，让组件更耐紫外线，，更低衰减和无惧阴影遮挡。。。。 二、用泰睿，，抗隐裂更好。。。。Hi-MO X10接纳九游会老哥必备的交流社区自研的泰睿硅片，，是硅片领域近十年最大立异。。。。该硅片纯度更高，，杂质更低，，首年衰减仅为1%，，线性衰减0.35%，，温度系数为-0.26%/℃。。。。同时，，泰睿硅片电阻匀称漫衍，，镌汰电流消耗，，强度比通俗硅片提升16%，，抗断裂能力更强，，抗隐裂性能大幅提升。。。。 三、0BB手艺，，吸光多发电更多。。。。Hi-MO X10不但正面因无栅线实现更多吸光效果，，并且背面栅线还接纳0BB手艺，，让正面和背面都能够实现最大限度的吸光效果，，实现更多发电。。。。同时，，Hi-MO X10的0BB手艺使得电流导通路径更短，，电池应力漫衍越发匀称，，最终实现电流的衰减更低和电池片的抗隐裂性能更强。。。。